Il sistema di sputtering ionico IG2 è la soluzione ideale per la pulizia a basso costo di campioni in UHV mediante fascio ionico, per analisi di superficie, pulizia di punte STM, applicazioni generali di scienza del vuoto e nanotecnologie.
Se desiderate semplicemente pulire la superficie del vostro campione o della punta STM, questa sorgente di ioni sputtering con controller, semplice da usare e affidabile, è la soluzione perfetta.
L’IG2 può funzionare con gas inerti come l’argon o in presenza di l’ossigeno.
